A diffusion–reaction scheme for modeling ignition and self-propagating reactions in Al/CuO multilayered thin films - LAAS - Laboratoire d'Analyse et d'Architecture des Systèmes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 2017

A diffusion–reaction scheme for modeling ignition and self-propagating reactions in Al/CuO multilayered thin films

Domaines

Physique [physics]

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https://laas.hal.science/hal-01620567

Soumis le : vendredi 20 octobre 2017-17:03:13

Dernière modification le : mercredi 3 avril 2024-11:24:09

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Dates et versions

hal-01620567 , version 1 (20-10-2017)

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Citer

Guillaume Lahiner, Andréa Nicollet, James Zapata, Lorena Marín, Nicolas Richard, et al.. A diffusion–reaction scheme for modeling ignition and self-propagating reactions in Al/CuO multilayered thin films. Journal of Applied Physics, 2017, 122 (15), pp.155105. ⟨10.1063/1.5000312⟩. ⟨hal-01620567⟩

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