A diffusion–reaction scheme for modeling ignition and self-propagating reactions in Al/CuO multilayered thin films

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Journal of Applied Physics, American Institute of Physics, 2017, 122 (15), pp.155105. 〈10.1063/1.5000312〉
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Contributeur : Alain Esteve <>
Soumis le : vendredi 20 octobre 2017 - 17:03:13
Dernière modification le : jeudi 29 mars 2018 - 09:04:04

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Guillaume Lahiner, Andréa Nicollet, James Zapata, Lorena Marín, Nicolas Richard, et al.. A diffusion–reaction scheme for modeling ignition and self-propagating reactions in Al/CuO multilayered thin films. Journal of Applied Physics, American Institute of Physics, 2017, 122 (15), pp.155105. 〈10.1063/1.5000312〉. 〈hal-01620567〉

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