Anisotropy in the wet thermal oxidation of AlGaAs: influence of process parameters - LAAS - Laboratoire d'Analyse et d'Architecture des Systèmes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Optical Materials Express Année : 2018

Anisotropy in the wet thermal oxidation of AlGaAs: influence of process parameters

Gael Lafleur
  • Fonction : Auteur
Guilhem Almuneau
Henri Camon
Stéphane Calvez

Résumé

The crystallographic anisotropy of the lateral selective thermal oxidation of AlGaAs alloys is experimentally studied. The anisotropic behavior of this oxidation process, used primarily for building a lateral confinement in vertical surface emitting lasers (VCSEL), is quantified by varying different process parameters and the geometrical shapes of laterally oxidized mesa structures. This experimental study aims to have a better control of the oxide aperture shape used in oxide-confined photonics devices.
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Dates et versions

hal-01810561 , version 1 (19-06-2018)

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Citer

Gael Lafleur, Guilhem Almuneau, Alexandre Arnoult, Henri Camon, Stéphane Calvez. Anisotropy in the wet thermal oxidation of AlGaAs: influence of process parameters. Optical Materials Express, 2018, 8 (7), pp.394 - 396. ⟨10.1364/OME.8.001788⟩. ⟨hal-01810561⟩
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